正在互动平台回覆投资者提问时暗示，公司此前推出的前道涂胶显影UltraLithTMTrack设备是一款使用于300毫米前道集成电制制工艺的设备，可供给平均的下降气流、高速不变的机械手以及强大的软件系统，从而满脚客户的特定需求。该设备功能多样，可以或许降低产物缺陷率，提高产能，节约总体具有成本（COO）。涂胶显影Track设备支撑支流光刻机接口，支撑包罗i-line、KrF和ArF系统正在内的各类光刻工艺，可确保满脚工艺要求的同时，颠末5年的潜心研发，2025年第三季度公司推出首款自从研发的高产出（300WPH）KrF工艺前道涂胶显影（Track）设备UltraLITHKrF，并已成功交付中国头部逻辑晶圆厂客户，该产物具有高产能、先辈温控手艺以及及时工艺节制和监测功能，展示了公司正在新产物品类中的持续扩展能力。